ASML獨(dú)家披露：EUV光刻機(jī)僅售5臺(tái)，Intel悄然轉(zhuǎn)變，光刻機(jī)不再那么重要了

ASML獨(dú)家披露：EUV光刻機(jī)僅售5臺(tái)，Intel悄然轉(zhuǎn)變，光刻機(jī)不再那么重要了

近日，ASML獨(dú)家披露，該公司向客戶僅售出五臺(tái)高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)，引發(fā)業(yè)界對(duì)于光刻機(jī)在芯片制造中的重要性的重新評(píng)估。特別是，Intel這一全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司，其悄然轉(zhuǎn)變引發(fā)了市場(chǎng)的廣泛關(guān)注。

首先，讓我們回顧一下High-NA EUV光刻機(jī)的背景。這款光刻機(jī)是ASML的最新一代產(chǎn)品，具有更高的數(shù)值孔徑，能夠更精確地將芯片設(shè)計(jì)圖案轉(zhuǎn)移到晶圓表面。它的出現(xiàn)被業(yè)界普遍認(rèn)為是對(duì)于先進(jìn)芯片開(kāi)發(fā)和下代處理器生產(chǎn)的關(guān)鍵推動(dòng)。

然而，時(shí)至今日，各大晶圓代工廠都在減少依賴High-NA EUV，延后導(dǎo)入時(shí)間。特別是Intel的這一舉動(dòng)，讓市場(chǎng)對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)的前景產(chǎn)生更多疑問(wèn)。據(jù)不愿透露姓名的Intel董事的說(shuō)法，新型晶體管設(shè)計(jì)如GAAFET和CFET，正在降低芯片制造對(duì)先進(jìn)光刻設(shè)備（尤其是EUV光刻機(jī)）的依賴。

這些設(shè)計(jì)是從四面包裹柵極，更偏用蝕刻去除多余材料，而不是增加晶圓曝光時(shí)間以縮小電路尺寸。芯片生產(chǎn)時(shí)橫向重要性日益增加，High-NA EUV的重要性相對(duì)降低。該董事認(rèn)為，新型設(shè)計(jì)將顯著增加刻蝕工藝在制造步驟中的重要性，從而削弱光刻在整體工藝中的主導(dǎo)地位。

盡管如此，這并不意味著光刻機(jī)的重要性完全消失。實(shí)際上，未來(lái)的重點(diǎn)可能從單純依賴光刻機(jī)縮小特征尺寸，轉(zhuǎn)向更復(fù)雜、更關(guān)鍵的刻蝕工藝，以確保這些新型三維晶體管結(jié)構(gòu)的精確成型。這一轉(zhuǎn)變預(yù)示著芯片制造技術(shù)路線可能迎來(lái)重大轉(zhuǎn)變。

值得注意的是，前不久臺(tái)積電也表達(dá)過(guò)類似的觀點(diǎn)。他們認(rèn)為在1.4nm級(jí)工藝技術(shù)中，不需要High-NA EUV光刻機(jī)，目前找不到非用不可的理由。這也從另一個(gè)角度說(shuō)明了光刻機(jī)在未來(lái)芯片制造中的角色變化。

回顧過(guò)去，我們可以看到ASML的高數(shù)值孔徑（High-NA）EUV光刻機(jī)的確是世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)之一，其高昂的價(jià)格讓很多廠商望而卻步。而現(xiàn)在，ASML僅向客戶交付五臺(tái)的事實(shí)，也反映出這一設(shè)備在市場(chǎng)上的需求可能并不如預(yù)期的高。

然而，這并不意味著光刻機(jī)的時(shí)代已經(jīng)結(jié)束。相反，隨著新型設(shè)計(jì)的出現(xiàn)和刻蝕工藝的發(fā)展，光刻機(jī)將在未來(lái)繼續(xù)發(fā)揮重要作用。而Intel的悄然轉(zhuǎn)變，也為我們提供了一個(gè)觀察未來(lái)芯片制造技術(shù)發(fā)展的窗口。

總的來(lái)說(shuō)，ASML獨(dú)家披露的EUV光刻機(jī)銷售數(shù)據(jù)和Intel的悄然轉(zhuǎn)變都為我們提供了一個(gè)重新審視光刻機(jī)在芯片制造中地位的機(jī)會(huì)，未來(lái)，我們將看到更多的創(chuàng)新和變革在這個(gè)領(lǐng)域中出現(xiàn)。

生成海報(bào)

免責(zé)聲明：本網(wǎng)站內(nèi)容主要來(lái)自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網(wǎng)站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網(wǎng)站將盡力確保所提供信息的準(zhǔn)確性及可靠性，但不保證有關(guān)資料的準(zhǔn)確性及可靠性，讀者在使用前請(qǐng)進(jìn)一步核實(shí)，并對(duì)任何自主決定的行為負(fù)責(zé)。本網(wǎng)站對(duì)有關(guān)資料所引致的錯(cuò)誤、不確或遺漏，概不負(fù)任何法律責(zé)任。任何單位或個(gè)人認(rèn)為本網(wǎng)站中的網(wǎng)頁(yè)或鏈接內(nèi)容可能涉嫌侵犯其知識(shí)產(chǎn)權(quán)或存在不實(shí)內(nèi)容時(shí)，應(yīng)及時(shí)向本網(wǎng)站提出書(shū)面權(quán)利通知或不實(shí)情況說(shuō)明，并提供身份證明、權(quán)屬證明及詳細(xì)侵權(quán)或不實(shí)情況證明。本網(wǎng)站在收到上述法律文件后，將會(huì)依法盡快聯(lián)系相關(guān)文章源頭核實(shí)，溝通刪除相關(guān)內(nèi)容或斷開(kāi)相關(guān)鏈接。