ASML的2納米光刻機已有點沉寂的意味，近期臺積電的說法對ASML來說更是重錘打擊，意味著ASML在未來5年時間都很難通過銷售2納米EUV光刻機獲得大筆收入，這一切都源自于臺積電的技術(shù)優(yōu)勢，以及臺積電由此獲得的先進工藝標準話語權(quán)。
近日在阿姆斯特丹舉行的歐洲技術(shù)研討會上，臺積電副首席運營官張曉強透露了臺積電在A16、A14工藝上的進展，指出臺積電至少到A14工藝都不會采用ASML最先進的2納米EUV光刻機，這對ASML來說絕對是重錘打擊。
張曉強表示A16工藝采用第二代環(huán)繞柵極晶體管（GAA）和全新的標準單元架構(gòu)，由此實現(xiàn)了性能的進一步提升和降低功耗，業(yè)界推測這項技術(shù)不過是在當前的2納米工藝進一步改良的技術(shù)，當然無需采用2納米EUV光刻機。
至于A14工藝，將采用全新的節(jié)點，采用更多創(chuàng)新技術(shù)，同樣會繼續(xù)采用現(xiàn)有的第一代EUV光刻機生產(chǎn)，預計在2028年量產(chǎn)，不過臺積電方面保證A14工藝的晶體管密度可以進一步提升20%，在相同功耗下可以提升最多15%的性能，或是在相同頻率下降低25%至30%的功耗。
從這些說法中可以看出臺積電的自信，那就是臺積電可以確保即使繼續(xù)采用現(xiàn)有的第一代EUV光刻機，臺積電也能持續(xù)將2納米之后的兩代工藝提升15%的性能或是降低超過兩成的功耗，而只要能達到這樣的提升，它說那是多少納米工藝，那就是多少納米的工藝。
臺積電有如此自信，在于兩大競爭對手三星和Intel都已無法跟上它的腳步，三星從3納米起就已在晶體管密度、工藝良率方面跟不上趟了，導致高通出走，至今未知三星的3納米工藝客戶到底是誰，還傳出三星大幅降低先進工藝產(chǎn)能。
至于Intel，雖然Intel說A18工藝發(fā)展順利，而Intel也是當下確定的是Intel 4工藝量產(chǎn)，預計今年底實現(xiàn)A18工藝量產(chǎn)，然而Intel的新任CEO陳立武在今年3月份才上任，千頭萬緒之下他是否真的能確保Intel A18工藝能如期量產(chǎn)？
Intel的上一任CEO基辛格當年上任的時候曾雄心勃勃，推進X86架構(gòu)研發(fā)，以反超AMD；推進芯片工藝研發(fā)，反超臺積電，再執(zhí)全球芯片工藝牛耳；借著在先進工藝方面的突破，拉攏美國芯片下單，發(fā)展代工業(yè)務(wù)，而美國芯片為臺積電貢獻七成收入。
如果Intel真能實現(xiàn)它的目標，那么Intel是真的能改變很多事情，而且當時美國也全力支持它，給它提供了百億美元援助，結(jié)果數(shù)年過去Intel的芯片工藝進展緩慢，芯片代工業(yè)務(wù)巨虧超百億美元，AMD在桌面PC市場超越Intel，在服務(wù)器芯片市場首次被AMD奪走接近兩成份額，基辛格被迫黯然退休。
如今陳立武剛剛上任，尚未完全理清這些頭緒，繼續(xù)延續(xù)基辛格的策略能否順利推進芯片工藝研發(fā)必然存在許多變數(shù)，臺積電作為行業(yè)領(lǐng)導者，恐怕更是深知Intel的技術(shù)進展細節(jié)，如今臺積電如此信心滿滿可能正是認識到Intel在芯片工藝研發(fā)方面未必能如期推進才如此表態(tài)。
如此情況下，全球芯片企業(yè)沒得選擇，只有臺積電能提供更先進的工藝，掌握著絕對的技術(shù)話語權(quán)，臺積電當然可以說它的先進工藝是A16那就是A16，是A14那就是A14，它當然不愿花大價錢采購昂貴的2納米EUV光刻機。
ASML則無可奈何，畢竟可以預見的采購2納米EUV光刻機的其實就只有臺積電、三星和Intel三大客戶，Intel已采購了6臺，臺積電如今沒有競爭壓力不愿采購，ASML生產(chǎn)的2納米EUV光刻機就只能繼續(xù)蒙塵，等著5年后臺積電計劃采購了才能促使三者競爭大量銷售了。
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