歷經(jīng)波折 上海新陽(yáng)終于收到ASML-1400光刻機(jī)：研發(fā)193nm光刻膠

3月8日，上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司發(fā)布公告，披露了關(guān)于購(gòu)買(mǎi)ASML-1400光刻機(jī)的最新進(jìn)展。

據(jù)介紹，上海新陽(yáng)自立項(xiàng)開(kāi)發(fā)193nmArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目以來(lái)，安排購(gòu)買(mǎi)了ASML-1400光刻機(jī)等核心設(shè)備，并于2020年12月14日披露，該光刻機(jī)將于2020年底前運(yùn)抵國(guó)內(nèi)。

不過(guò)此后，由于上海新陽(yáng)與光刻機(jī)供應(yīng)商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(畢竟)有限公司在溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運(yùn)輸與安裝等細(xì)節(jié)方面遇到波折，光刻機(jī)設(shè)備沒(méi)能在規(guī)定時(shí)間內(nèi)運(yùn)達(dá)。

隨后，雙方就具體合作細(xì)節(jié)簽署了《合作框架協(xié)議》，預(yù)計(jì)該光刻機(jī)將于2021年3月底前進(jìn)入北方集成電路現(xiàn)場(chǎng)。

現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運(yùn)作，這臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備于今日已進(jìn)入北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司的場(chǎng)地，后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。

上海新陽(yáng)表示，采購(gòu)的ASML干法光刻機(jī)設(shè)備順利交付，對(duì)加快193nm ArF干法光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)進(jìn)度有積極影響，有利于進(jìn)一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競(jìng)爭(zhēng)力，加快落實(shí)公司發(fā)展戰(zhàn)略，提高公司抗風(fēng)險(xiǎn)能力和可持續(xù)發(fā)展能力。

不過(guò)，這臺(tái)光刻機(jī)尚須經(jīng)過(guò)裝機(jī)、調(diào)試等相關(guān)環(huán)節(jié)，如果出現(xiàn)工作疏漏或失誤，則存在造成光刻機(jī)投入使用過(guò)程較長(zhǎng)，甚至無(wú)法投入使用的風(fēng)險(xiǎn)。

另外，光刻膠研發(fā)項(xiàng)目技術(shù)壁壘高、周期長(zhǎng)，投入產(chǎn)業(yè)化并最終實(shí)現(xiàn)銷售利潤(rùn)，仍需一定時(shí)間，而且價(jià)格昂貴，其折舊及后續(xù)維護(hù)費(fèi)用預(yù)計(jì)對(duì)公司的經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jī)存在一定影響。

生成海報(bào)

免責(zé)聲明：本網(wǎng)站內(nèi)容主要來(lái)自原創(chuàng)、合作伙伴供稿和第三方自媒體作者投稿，凡在本網(wǎng)站出現(xiàn)的信息，均僅供參考。本網(wǎng)站將盡力確保所提供信息的準(zhǔn)確性及可靠性，但不保證有關(guān)資料的準(zhǔn)確性及可靠性，讀者在使用前請(qǐng)進(jìn)一步核實(shí)，并對(duì)任何自主決定的行為負(fù)責(zé)。本網(wǎng)站對(duì)有關(guān)資料所引致的錯(cuò)誤、不確或遺漏，概不負(fù)任何法律責(zé)任。任何單位或個(gè)人認(rèn)為本網(wǎng)站中的網(wǎng)頁(yè)或鏈接內(nèi)容可能涉嫌侵犯其知識(shí)產(chǎn)權(quán)或存在不實(shí)內(nèi)容時(shí)，應(yīng)及時(shí)向本網(wǎng)站提出書(shū)面權(quán)利通知或不實(shí)情況說(shuō)明，并提供身份證明、權(quán)屬證明及詳細(xì)侵權(quán)或不實(shí)情況證明。本網(wǎng)站在收到上述法律文件后，將會(huì)依法盡快聯(lián)系相關(guān)文章源頭核實(shí)，溝通刪除相關(guān)內(nèi)容或斷開(kāi)相關(guān)鏈接。