黃仁勛透露：GAA技術(shù)2028年為NVIDIA新GPU提20%性能

近日，在GTC 2025大會(huì)的訪談中，NVIDIA首席執(zhí)行官黃仁勛表示，基于環(huán)繞柵極（GAA）晶體管的下一代制程技術(shù)，將為新一代GPU帶來約20%的性能提升。若不出意外，黃仁勛所指的新一代GPU應(yīng)為預(yù)計(jì)在2028年推出的Feynman架構(gòu)產(chǎn)品。

報(bào)道顯示，黃仁勛在問答環(huán)節(jié)似乎有意淡化制程節(jié)點(diǎn)變化的重要性。他強(qiáng)調(diào)，隨著摩爾定律的放緩，未來全新的制程技術(shù)在芯片密度、功率和能效方面的改進(jìn)較為有限，預(yù)計(jì)只能帶來20%左右的性能提升。黃仁勛指出，盡管領(lǐng)先工藝技術(shù)帶來的改進(jìn)值得肯定，但已不再具有變革性意義。他表示“我們會(huì)接受它”，同時(shí)認(rèn)為其他因素在當(dāng)下更為關(guān)鍵。隨著人工智能系統(tǒng)的不斷擴(kuò)展，管理大量GPU的效率變得比單個(gè)GPU的原始性能更為重要。

從過往情況來看，NVIDIA通常不會(huì)率先采用臺(tái)積電最新的工藝制程，而是傾向于選擇次新的成熟制程技術(shù)。例如，目前NVIDIA使用臺(tái)積電的4nm制程技術(shù)生產(chǎn)面向消費(fèi)級(jí)和數(shù)據(jù)中心的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell等架構(gòu)的GPU，而臺(tái)積電的4nm節(jié)點(diǎn)制程實(shí)際上是5nm節(jié)點(diǎn)制程的改良版本。據(jù)悉，NVIDIA的下一代GPU架構(gòu)RuBin計(jì)劃采用臺(tái)積電3nm節(jié)點(diǎn)制程，可能是N3P或者為NVIDIA定制的版本。

由此推斷，NVIDIA首款采用GAA制程技術(shù)的產(chǎn)品大概率是2028年推出的Feynman架構(gòu)GPU。不過，黃仁勛并未提及會(huì)采用哪家廠商的GAA制程技術(shù)，所以理論上臺(tái)積電的N2制程技術(shù)、三星的類似技術(shù)，甚至是Intel 18A都有被選用的可能。（Suky）

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