近日,BusinessKorea報道,由于2nm制程量產(chǎn)良率問題,三星電子決定暫停其在 Texas(泰勒)工廠的人員部署,并撤回部分工作人員回國。這一舉措不僅凸顯了三星在先進制程工藝上所面臨的挑戰(zhàn),也引發(fā)了外界對其競爭力的擔憂。
據(jù)悉,三星電子在2nm制程上的良率目前低于50%,尤其是在3nm以下工藝方面,與競爭對手臺積電相比存在明顯差距。據(jù)數(shù)據(jù)顯示,臺積電的先進工藝良率約為60-70%,這使得臺積電在市場份額上領先于三星,差距高達50.8個百分點(臺積電Q2占比62.3%,而三星僅為11.5%)。
業(yè)內人士透露,三星電子在GAA(Gate-All-Around)工藝上的良率僅為10-20%,這遠低于訂單和大規(guī)模生產(chǎn)所需的良率標準。正是這一良率問題,迫使三星重新考慮其戰(zhàn)略,并決定從泰勒工廠撤回工作人員。
與此同時,三星電子已簽署了一份初步協(xié)議,希望通過美國CHIPS法案獲得最高9萬億韓元(約合478.26億元人民幣)的補貼。然而,這一補貼的獲得有一個前提,那就是工廠必須滿足美國的相關條件。在當前良率問題的背景下,三星能否順利拿到這一補貼,成為了外界關注的焦點。
業(yè)內專家認為,三星電子在晶圓代工領域的競爭力下滑,其內部官僚主義、決策制定流程緩慢以及低薪酬是主要原因。一位半導體教授指出,與20-30年前相比,三星在投資時機上的延后,也暴露出管理層當前現(xiàn)實缺乏充分認識。要想重振競爭力,三星電子需要對管理系統(tǒng)進行根本性的改革。(Suky)
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