5月9日消息，近日中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）推出自主研發(fā)的12英寸低壓化學氣相沉積(LPCVD)設備Preforma Uniflex? CW。
據(jù)悉作為中微公司自主研發(fā)的產出效率高且性能卓越的12英寸LPCVD設備，PreformaUniflex? CW可靈活配置多達五個雙反應臺反應腔（十個反應臺），每個反應腔可以同時加工兩片晶圓，在保證較低的生產成本和化學品消耗的同時，實現(xiàn)更高的生產效率。
Preforma Uniflex? CW配備了完全擁有自主知識產權的優(yōu)化混氣方案及加熱臺, 具有優(yōu)秀的薄膜均一性、填充能力和工藝調節(jié)靈活性，對于彎曲度較大的晶圓，它也具備良好的工藝處理能力。并且其優(yōu)異的階梯覆蓋率和填充能力，可以滿足先進邏輯器件、DRAM和3D NAND中接觸孔以及金屬鎢線的填充應用需求。
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